Crescimento e Caracterização da película fina ITO por Magnetron Sputtering : Edicoes Nosso Conhecimento : 9786203340280 : 6203340286 : 21 Oct 2021 : Neste estudo, as películas finas de óxido de estanho índio (ITO) foram cultivadas tanto por técnicas de pulverização de magnetrões DC como RF. Para conhecer a taxa de deposição de ITO, os sistemas foram calibrados tanto para DCMS como para RFMS e depois as ITO foram cultivadas em substrato de vidro com a espessura de 70 nm e 40 nm por alteração da temperatura do substrato. Foi investigado o efeito da temperatura do substrato, da espessura da película e do método de pulverização catódica nas propriedades estruturais, eléctricas e ópticas. Os resultados mostram que a temperatura do substrato e a espessura da película afectam substancialmente as propriedades da película, especialmente a cristalização e a resistividade. As películas finas cultivadas a uma temperatura inferior a 150 oC mostraram uma estrutura amorfa. No entanto, a cristalização